开云官网切尔西赞助商2022 年单台 EUV 价钱约 1.8 亿欧元-kaiyun·开云(中国大陆)官方网站入口

发布日期：2024-11-19 08:42 点击次数：85

1.光刻工艺

（1）集成电路制造经过复杂，光刻为其中要害一环

光刻（Lithography）是指在特定波长明朗的作用下，将打算在掩膜版上的集成电路图形震动到硅片表面的光刻胶上的时刻工艺。为了完成图形震动，需要阅历千里积、旋转涂胶、软烘、瞄准与曝光、后烘、显影、坚膜烘焙、显影检测等 8 说念工序，检测及格后络续进行刻蚀、离子注入、去胶等要津，并视需要重叠制程要津，开导芯片的“摩天大楼”。

（2）光刻中枢肠位：1/2 的时候+1/3 的资本

跟着芯眨眼间刻的发展，重叠要津数增多，先进芯片需要进行 20-30 次光刻，光刻工艺的耗时不错占到整个晶圆制造时候的 40%-50%，用度约占芯片分娩资本的 1/3。

2.光刻机

（1）曝光设备诈骗世俗，光刻机不绝指用于芯片前说念工艺的光刻设备泛半导体光刻时刻可分为直写光刻和掩模光刻，直写式光刻精度较低，多用于 IC 后说念封装、低世代线平板透露、PCB 等边界；掩模光刻当今的主流神气为投影式，光刻精度高，可用于 IC 制造的前说念工艺、后说念先进封装和中高世代线的 FPD 分娩。

（2）光刻机单机价值量高，滋长千亿市集空间

2022 年环球晶圆前说念设备销售 941 亿好意思元，光刻机占 17%，是 IC 制造的第三大设备，但却是单机价值量最大的设备。据 ASML 财报测算，2022 年单台 EUV 价钱约 1.8 亿欧元，浸没式 DUV 约 6500 万欧元。

3.光刻机时刻发展历程

光刻机的时刻演进主要分为以下几个阶段。

1）UV 光刻机：用于 0.25 微米及以上制程节点，UV 为紫外光，光源类型包括 g-line、i-line 等。

2）干式 DUV 光刻机：可用于 65nm-0.35μm 制程节点，干式 DUV 是指在光刻过程中使用干式透镜和深紫外线光源，该时刻在 20 世纪 90 年代初得到了世俗诈骗。

3）浸入式 DUV 光刻机：可用于 7nm-45nm 制程节点，跟着芯片制造时刻对先进制程的需求捏续增多，干式 DUV 光刻机已无法昂扬其精度条目。浸入式 DUV 光刻机通过把物镜与晶圆之间的填充由空气改动为水，进而取得更高的数值孔径（NA），使光刻机具有更高的折柳率与成像智商。

4）Low-NAEUV 光刻机：用于 3nm-7nm 制程节点，EUV 为极紫外光，该光源的波长较此前光源明

显减小，显耀普及光刻机的折柳率。

5）High-NAEUV 光刻机：用于 3nm 以下制程节点，High-NA 是指高数值孔径（0.33→0.55），是下一代光刻机时刻，将在已有 EUV 基础上进一步提高折柳率与成像智商，从而完结更先进制成的分娩。

面前该时刻由阿斯麦公司研发中，公司瞻望在 2025 年完结出货。